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            技術文章

            鋁鉻酸陽極氧化的方法

            • 作者:
            • 發布時間:2020-12-08 13:22:16
            • 點擊:1465

              經鉻酸陽極氧化得到的陽極氧化膜厚度為2μm~5μm,空隙率低,膜層質軟,耐磨性較差,由于鋁的溶解少,形成陽極氧化膜后,零件仍能保持原來的精度和表面粗糙度,故該工藝適用于精密零件。

              鉻配含量過高或過低,陽極氧化能力都降低,但稍微偏高是允許的。噴砂氧化加強染色前的清洗,產品由氧化槽中取出后要充分清洗,特別是工件的夾縫,盲孔處,否則殘留的酸在染色時會緩慢流出來,讓染色容液的PH偏離正常范圍,并使其部位的顏色和其它地方有明顯的差別,甚至腐蝕氧化膜。 鉻配含量過低的電解液不穩定。會造成膜層質量下降。

              在鉻酸陽極氧化電解液中的氯離子、硫酸根離子和三價鉻離子都是有害的雜質。氯離子會引起零件的蝕刻;硫酸根離子數量的增加會使陽極氧化膜從透明變為不透明,并縮短鉻酸液的使用壽命;三價鉻離子過多會使陽極氧化膜變得暗而無光。

              在陽極氧化開始的15min內,使電壓從0V逐漸升至40V,每次上升不超過5V,以保持電流在規定的范圍內,當槽電壓達40V后,一直保持到陽極氧化結束。鋁氧化加工化學氧化氧化膜較薄,厚度約為0.5~4微米,且多孔,質軟,具有良好的吸附性,可作為有機涂層的底層,但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜。

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